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设备部门

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UN2000A-BW
半导体专用热湿法洗涤器
  • 机型UN2000A-BW
  • 气体处理方式HEAT WET
  • 处理容量300LPM
  • 尺寸850(W)X900(D)X1750(H)
UN2000A-BW
把半导体、LCD、OLED、Solar Cell生产工程中产生的有毒气体,净化而排放的设备

产品特点

  • 乾系统 : 排放最少量的水份
  • 使用高温加热器,处理易燃性及水溶性气体
  • 运行成本比Burn和Plasma Type低

可处理的气体

  • PFC气体 : NF3
  • 易燃性气体 : SiH4, DCS, TEOS, H2, PH3, ETC
  • 水溶性气体 : Cl2, HF, HCl, NH3, ETC